H94-27型紫外光刻机找平机构先进，找平力小、不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的曝光，而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟以及非圆形基片和小型基片的曝光。

1. 曝光类型：单面

2. 曝光面积：≥Φ165mm

3. 曝光模式：一次或套刻曝光

4. 曝光方式：密着曝光

5. 掩膜板尺寸：5"×5"、6"×6"、7"×7"                              

紫外光刻机主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。