氮化硅片 Si3N4

货号:100985 编号:MK1344

CAS号:12033-89-5 规格:

包装:标准包装 保质期:12个月+

保存条件:室温密封保存

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碳纳米笼

货号:100985 编号:MK1344

CAS号:12033-89-5 规格:

包装:标准包装 保质期:12个月+

保存条件:室温密封保存

请选择规格参数

  • 4英寸-50nm氮化层
  • 4英寸-100nm氮化层
  • 4英寸-150nm氮化层
  • 4英寸-200nm氮化层
  • 4英寸-300nm氮化层
  • 4英寸/6英寸-其他厚度氮化层
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 简要介绍:

  在微电子和光电子材料及器件的研究和生产领域,氮化硅已然成为一种重要的薄膜材料。随着超大规模集成电路的发展,集成度、复杂性和封装要求的不断提高,氮化硅作为钝化膜、绝缘层、扩散掩膜应用越来越广泛。研究发现,硅中的氮能够提高硅单晶的强度,防止硅片翘曲,并能抑制微缺陷形成。

样品名称尺寸氮化层厚度成膜方式硅厚度硅片电阻率
氮化硅片4英寸(100mm)100nm 200nm 300nm其他可定制LPCVD375μm/500μm<0.05 Ω·cm

氮化硅衬底照片:

100nm Si3N4层:

IMG20240430191740-带水印.jpg

150nm  Si3N4

IMG20211201104805.jpg

IMG20211201104313.jpg

200nm Si3N4


IMG20211201104533.jpg



 LPCVD制备Si3N4不同厚度颜色不同:


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