PECVD生长氮化硅薄膜氧化硅薄膜
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碳纳米笼
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仪器型号：日本爱发科大型设备
制备薄膜：Si3N4薄膜、SiO2薄膜
制备尺寸：4英寸，6英寸，8英寸衬底
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