原子层薄膜沉积-ALD

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碳纳米笼

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ALD薄膜生长服务：

设备：芬兰beneq台机

型号：TFS 200

生长薄膜：Al2O3、SiO2、ZnO、TiO2薄膜;HfO2、ZrO2、In2O3、AlN、TiN薄膜

薄膜厚度：可根据需要定制

生长样品尺寸：8英寸内

价格：询价

设备照片：

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生长样品照片：

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