原子层薄膜沉积-ALD
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碳纳米笼
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ALD薄膜生长服务:
设备:芬兰beneq台机
型号:TFS 200
生长薄膜:Al2O3、SiO2、ZnO、TiO2薄膜;HfO2、ZrO2、In2O3、AlN、TiN薄膜
薄膜厚度:可根据需要定制
生长样品尺寸:8英寸内
价格:询价
设备照片:
生长样品照片:
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