技术特点
H94-27型紫外光刻机找平机构先进，找平力小、不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的曝光，而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟以及非圆形基片和小型基片的曝光。
系统参数
1. 曝光类型：单面
2. 曝光面积：≥Φ165mm
3. 曝光模式：一次或套刻曝光
4. 曝光方式：密着曝光
5. 掩膜板尺寸：5"×5"、6"×6"、7"×7"
产品应用
紫外光刻机主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。
服务时间：周一至周日 08:30 — 20:00 全国订购及服务热线：025-66171690 18052095282联系地址：南京市麒麟科技创新园康园路20号南京空间大数据产业基地B栋 苏ICP备15025922号-1
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