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CVD-PdS2薄膜
 
货号: 1009001 规格: 1*1cm2
CAS号: 12125-22-3 保质期:
编号: MK11001 保存条件:
包装: 原包装进口
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Description

PdS2 is vdW material with excellent catalytic and semiconducting properties. Full area coverage PdS2 layers on c-cut sapphire substrates has been grown using modified chemical vapor deposition technique. Sample size measures 1cm in size and the entire sample surface contains PdS2 sheets.

Growth method: Our company synthesizes these monolayers using chemical vapor deposition (CVD) using highest purity (6N) gases and precursors in semiconductor grade facilities to produce crystalline and large domain size samples (1-50um). This is unlike commonly used MOCVD process wherein defects are very very large and domain sizes are small (10nm-500nm). 



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